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江苏发布《半导体行业污染物排放标准》(征求意见稿)

天天IC2018-05-27 09:35:34

集微网消息,江苏省地方标准《半导体行业污染物排放标准》(征求意见稿)已经印发。征求意见稿对于半导体行业大气污染物、水污染物排放项目及限值做了详细规定。全文如下:

半导体行业污染物排放标准

(征求意见稿)

前言

为贯彻《中华人民共和国环境保护法》、《中华人民共和国大气污染防治法》、《中华人民共和国水污染防治法》等法律、法规,防治环境污染,改善环境质量,促进半导体行业生产工艺和污染治理技术的进步,制定本标准。

本标准规定了半导体工业企业或生产设施的水污染物和大气污染物排放限值、监测和监控要求,以及标准实施与监督等相关规定。

本标准未规定的污染物项目仍执行国家或地方污染物综合排放标准,国家或地方发布的(综合或行业)污染物排放标准中,排放限值严于本标准限值的,按照从严要求的原则,执行更严格的排放控制要求。

本标准为首次发布。

本标准由江苏省环境保护厅组织制订。

本标准起草单位:江苏省环境科学研究院、江苏省环科咨询股份有限公司。

本标准江苏省人民政府于2018年**月**日批准。

本标准自2018年**月**日实施。

本标准由江苏省环境保护厅解释。

半导体行业污染物排放标准

1 范围

本标准规定了半导体企业的水污染物和大气污染物排放标准值。

本标准适用于半导体企业的水污染物排放管理、大气污染物排放管理,以及半导体企业建设项目环境影响评价、建设项目环境保护设施设计、竣工验收及其投产后的污染控制与管理。

2 规范性引用文件

本标准内容引用了下列文件或其中的条款。凡是不注明日期的引用文件,其有效版本适用于本标准。

GB/T6920水质pH值的测定玻璃电极法

GB/T7466水质总铬的测定

GB/T7467水质六价铬的测定二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T7470水质铅的测定双硫腙分光光度法

GB/T7471水质镉的测定双硫腙分光光度法

GB/T7475水质铜、锌、铅、镉的测定原子吸收分光光度法

GB/T7484水质氟化物的测定离子选择电极法

GB/T7485水质总砷的测定二乙基二硫代氨基甲酸银分光光度法

GB8978污水综合排放标准

GB/T11893水质总磷的测定钼酸铵分光光度法

GB/T11901水质悬浮物的测定重量法

GB/T11907水质银的测定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11910水质镍的测定丁二酮肟分光光度法

GB/T11912水质镍的测定火焰原子吸收分光光度法

GB/T11914水质化学需氧量的测定重铬酸盐法

GB/T14668空气质量氨的测定纳氏试剂比色法

GB/T16157固定污染源排气中颗粒物测定与气态污染物采样方法

GB16297大气污染物综合排放标准

GB/T16489水质硫化物的测定亚甲基蓝分光光度法

HJ480环境空气氟化物的测定滤膜采样氟离子选择电极法

HJ481环境空气氟化物的测定石灰滤纸采样氟离子选择电极法

HJ484水质氰化物的测定容量法和分光光度法

HJ485水质铜的测定二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法

HJ486水质铜的测定2,9-二甲基-1,10-菲啰啉分光光度法

HJ487水质氟化物的测定茜素磺酸锆目视比色法

HJ488水质氟化物的测定氟试剂分光光度法

HJ489水质银的测定3,5-Br2-PADAP分光光度

HJ490水质银的测定镉试剂2B分光光度法

HJ493水质采样样品的保存和管理技术规定

HJ494水质采样技术指导

HJ495水质采样方案设计技术指导

HJ505水质五日生化需氧量(BOD5)的测定稀释与接种法

HJ533环境空气和废气氨的测定纳氏试剂分光光度法

HJ534环境空气氨的测定次氯酸钠-水杨酸分光光度法

HJ535水质氨氮的测定纳氏试剂分光光度法

HJ536水质氨氮的测定水杨酸分光光度法

HJ537水质氨氮的测定蒸馏-中和滴定法

HJ544固定污染源废气硫酸雾的测定离子色谱法

HJ548固定污染源废气氯化氢的测定硝酸银容量法

HJ549环境空气和废气氯化氢的测定离子色谱法

HJ583环境空气苯系物的测定固体吸附/热脱附-气相色谱法

HJ584环境空气苯系物的测定活性炭吸附/二硫化碳解吸-气相色谱法

HJ659水质氰化物等的测定真空检测管-电子比色法

HJ670水质磷酸盐和总磷的测定连续流动-钼酸铵分光光度法

HJ671水质总磷的测定流动注射-钼酸铵分光光度法

HJ694水质汞、砷、硒、铋和锑的测定原子荧光法

HJ732固定污染源废气挥发性有机物的采样气袋法

HJ/T38固定污染源排气中非甲烷总烃的测定气相色谱法

HJ/T55大气污染物无组织排放监测技术导则

HJ/T60水质硫化物的测定碘量法

HJ/T67大气固定污染源氟化物的测定离子选择电极法

HJ/T75固定污染源烟气排放连续监测技术规范(试行)

HJ/T76固定污染源烟气排放连续监测系统技术要求及检测方法(试行)

HJ/T84水质无机阴离子的测定离子色谱法

HJ/T91地表水和污水监测技术规范

HJ/T195水质氨氮的测定气相分子吸收光谱法

HJ/T200水质硫化物的测定气相分子吸收光谱法

HJ/T373固定污染源监测质量保证与质量控制技术规范(试行)

HJ/T397固定源废气监测技术规范

HJ/T399水质化学需氧量的测定快速消解分光光度法

《污染源自动监控管理办法》(国家环境保护总局令第28号)

《环境监测管理办法》(国家环境保护总局令第39号)

3 术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1半导体企业semiconductorindustry

指从事半导体分立器件或集成电路的制造、封装测试的企业。

3.2特殊保护水域specialprotectedwaterarea

指《江苏省太湖水污染防治条例》中划定的太湖流域水域;GB3838中II类水域;由本省各市人民政府规定的居民集中式生活饮用水取水口卫生防护带水域。

3.3废气处理设施exhaustgascontroldevices

指处理废气的湿式洗涤塔、焚烧塔、吸收塔、冷凝塔或其他设备,但不包括工艺中设备自带的预处理设备。

3.4密闭排气系统closedventsystem

指可将设备或设备组件排出或逃逸的空气污染物捕集并输送至废气污染防治设备,使传送的气体不直接与大气接触的系统。

3.5现有企业existingfacility

指本标准实施之日前已建成投产或环境影响评价文件已通过审批的半导体企业或生产设施。

3.6新建企业newfacility

指本标准实施之日起环境影响评价文件通过审批的新建、改建和扩建的半导体工业建设项目。

3.7直接排放directdisge

指排污单位直接向环境水体排放水污染物的行为。

3.8间接排放indirectdisge

指排污单位向公共污水处理系统排放水污染物的行为。

3.9公共污水处理系统publicwastewatertreatmentsystem

通过纳污管道等方式收集废水,为两家以上排污单位提供废水处理服务并且排水能够达到相关排放标准要求的企业或机构,包括各种规模和类型的城镇污水处理厂、区域(包括各类工业园区、开发区、工业聚集地等)废水处理厂等,其废水处理程度应达到二级或二级以上。

3.10挥发性有机物volatileorganiccompounds,VOCs

参与大气光化学反应的有机化合物,或者根据规定的方法测量或核算确定的有机化合物。

3.11非甲烷总烃non-methanehydrocarbon

采用规定的监测方法,检测器有明显响应的除甲烷外的碳氢化合物的总称(以碳计)。本标准使用“非甲烷总烃(NMHC)”作为排气筒和厂界挥发性有机物排放的综合控制指标。

3.12标准状态standardcondition

指温度为273.15K,压力为101325Pa时的状态。本标准规定的大气污染物排放浓度限值均以标准状态下的干气体为基准。

3.13企业边界enterpriseboundary

指半导体工业企业的法定边界。若无法定边界,则指企业的实际占地边界。

4 污染物排放控制要求

4.1水污染物排放控制要求

4.1.1标准分级

4.1.1.1特殊保护水域内不准新建排污口。原有排污口执行表1标准和表2中的特别排放限值标准。

4.1.1.2现有企业2018年7月1日前仍执行现行标准,自2018年7月1日起执行表1、表2规定的水污染物排放限值。

4.1.1.3自2018年7月1日起,新建企业污水执行表1、表2规定的排放限值。

4.1.2标准值分类

4.1.2.1本标准将污染物按其性质及控制方式分成二类。

4.1.2.1.1第一类污染物,不分污水排放方式和受纳水体的功能类别,一律在车间或车间处理设施排放口采样,其最高允许排放浓度应达到本标准要求。

4.1.2.1.2第二类污染物,在排放单位排放口采样,其最高允许排放浓度应达到本标准要求。

4.1.2.2本标准对氟化物、悬浮物(SS)、生化需氧量(BOD5)、化学需氧量(CODCr)、氨氮5项污染物均规定了以日均值计的最高允许排放浓度和以瞬时值计的最高允许排放浓度两项指标,这5项污染物的排放应同时遵守上述两项指标。其他污染物的最高允许排放浓度以日均值计。

4.1.2.3企业向城镇污水处理厂排放废水时,水污染物排放执行表1、表2排放控制要求;企业废水排入公共污水处理系统的除总镉、总铬、六价铬、总砷、总铅、总镍、总银执行表1排放控制要求外,由企业与公共污水处理系统商定或执行相关标准,并报当地环境保护主管部门备案,公共污水处理系统排放应保证达到相关环保要求。

4.1.3标准值

半导体企业的水污染物排放执行表1和表2的规定。



4.2大气污染物排放控制要求

4.2.1位于GB3095中一类区的污染源禁止排放表3所列的大气污染物。

4.2.2现有企业2018年7月1日前仍执行现行标准,自2018年7月1日起执行本标准表3规定的排放限值。

4.2.3自2018年7月1日起,新建企业执行表3规定的排放限值。



4.2.4企业边界大气污染物任何1小时平均浓度执行表4规定的限值。

4.2.5为减少全氟化物(PFCs)排放对环境产生的影响,集成电路制造企业宜制订PFCs排放的年削减计划,通过优化工艺、原料替代、循环利用、污染治理等措施减少PFCs的排放。

4.2.6其他规定

4.2.6.1排气筒高度不应低于15m,具体高度按批准的环境影响评价文件要求确定。

4.2.6.2当排气筒周围半径200m范围内有建筑物时,除应执行4.2.6.1规定外,排气筒还应高出最高建筑物3m以上。

4.2.6.3如果排气筒高度达不到4.2.6.1、4.2.6.2的任何一项规定时,其大气污染物排放限值应按标准排放限值的50%执行。

4.2.6.4企业内部设置的锅炉,其大气污染物排放应执行GB13271。

5 污染物监测要求

5.1污染物监测的一般要求

5.1.1企业应按照有关法律和《环境监测管理办法》等规定,建立企业监测制度,制定监测方案,对污染物排放状况及其对周边环境质量的影响开展自行监测,保存原始监测记录,并公布监测结果。

5.1.2企业安装污染源排放自动监控设备的要求,按有关法律和《污染源自动监控管理办法》的规定执行。

5.1.3企业应按照环境监测管理规定和技术规范的要求,设计、建设、维护永久性采样口、采样测试平台和排污口标志。

5.1.4对企业排放的废水和废气的采样,应根据监测污染物的种类,在规定的污染物排放监控位置进行。有废水、废气处理设施的,应在该设施后监控。

5.2水污染物监测要求

5.2.1水污染物的监测采样按HJ/T91、HJ493、HJ494、HJ495的规定执行。

5.2.2对企业排放水污染物浓度的测定采用表5所列的方法标准。




5.3大气污染物监测要求

5.3.1排气筒中大气污染物的监测采样按GB/T16157、HJ/T397或HJ/T75规定执行;大气污染物无组织排放的监测按HJ/T55规定执行。

5.3.2对企业排放大气污染物浓度的测定采用表6所列的方法标准。


6 标准的实施与监督

6.1本标准由县级以上人民政府环境保护行政主管部门负责监督实施。

6.2在任何情况下,企业均应遵守本标准的污染物排放控制要求,采取必要措施保证污染防治设施正常运行。各级环保部门在对设施进行监督性检查时,可以现场即时采样或监测获得的结果作为判定排污行为是否符合排放标准及实施相关环境保护管理措施的依据。



校对/乐川

图源/网络